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最專業精密加熱製程設備供應商

LPCVD 低壓氣象沉積系統

  • 型號 : LPCDHTF1200c
  • 加熱區 : 12”dia x 48L
  • 最高溫 : 1200C
  • Heater : R-Type, 3Set T/C, lead wire and head 160A, 380V/60Hz/3ph
  • 三區加熱, 電腦控制, 可自動控制溫度(升降溫、恆溫)及控制真空壓力與手臂進出
  • 自動 PID 控制器
  • 即時 LED 顯示螢幕當下實際溫度與製程參數
  • 適用晶片 6~8" Wafer
  • 可課製設定溫度設定程式,且可調整 PID 參數以達到最佳設定溫度點
  • 無塵室內高架地板

  • 6" Wafer

  • 4 Tube System

  • Vacuum Cap System

  • PLC Control System