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最專業精密加熱製程設備供應商

RTA 快速退火爐

抽屜式 RTA - R-401 2"4"單片

  • 加熱區:四區加熱設計,共 150X150 ㎜
  • 溫度: 1區, 最高操作溫度1000℃
  • 均溫區:Ø100 ㎜ ±3℃
  • 適用晶片: 破片~4" Wafer
  • 外觀尺寸: 500 x 500 x H1060 mm
  • 升溫速率:1℃~100℃/ 秒 UP
  • 模組化加熱體:加熱元件隔熱材料採用冷壁式設計
  • 隔熱:採用氣體與冷卻水雙重冷卻
  • 熱電偶:k- type 合金測溫線
  • 進口數位可程式溫度控制器:一組 16 段 or 30 組 300 段
  • 電力需求:220V / 100A / 1Ø 、25000W
  • 抽屜式RTA

    適用晶片 2"~4" Wafer

  • 石英載盤
  • 最高溫 1000 度

    升溫速率 1℃~100℃/ 秒 UP

R-8160  2" x 16片 or  8" 單片

  • 加熱區:6 區設計,250X250 ㎜
  • 均溫區:Ø200 ㎜ ±3℃
  • 適用晶片: 2"x16pc or 8"x1pc Wafer
  • 最高操作溫度:1000℃
  • 升溫速率:1℃~100℃/ 秒 UP
  • 模組化加熱體:加熱元件隔熱材料採用冷壁式設計
  • 隔熱:採用氣體與冷卻水雙重冷卻
  • 熱電偶:k- type 合金測溫線
  • 進口數位可程式溫度控制器:一組 16 段 or 30 組 300 段
  • 電力需求:220V / 100A / 1Ø 、25000W
  • 適用晶片 4"

    Wafer : 2"~8"(2"x16pc,4"x4pc,8"x1pc)

  • RTA 專用 SIC 載盤
  • T/C Wafer校正
  • 升降曲線

    RTA電腦生降溫

Tube RTA

  • 類型:近紅外線高溫型
  • 溫度範圍:室溫~1,200?(最大)
  • 最大加熱速率:50度C/s 真空中
  • 溫度均溫區: ±2℃ at 1200度C 真空中
  • 加熱氣氛:大氣中、真空中、不活性氣體
  • 試料區尺寸:20mm x 20mm x 2.0tmm (最大)
  • 溫度控制器感測器:JIS熱電偶 K固定
  • Lamp型式:1kW-4-100V
  • 程式模組:溫度對時間設定、Stmp數256、Progrm數32(最大)、PID+fuzzy 控制、自動微調、USB通信機能、自動/手動操作等多數機能
  • 外觀尺寸:約260W x 169H x 355D
  • 最高溫1000度

    升溫速率50℃~100℃/ 秒 UP

  • 滑軌式開口設計
  • 管型 RTA

    適用晶片 4"  Wafer

  • 真空排氣 / 數位真空計
  • 管型6" 黃金反射腔體